La tecnologia di trattamento dei gas di scarico industriali al plasma ha sviluppato apparecchiature standardizzate per il trattamento dei gas di scarico, che utilizza gli elettroni ad alta energia generati, i radicali liberi e altre particelle attive per attivare, ionizzare e craccare i vari componenti nei gas di scarico industriali, causando una serie di reazioni chimiche complesse come decomposizione e ossidazione. Dopo la purificazione a più stadi, i vari odori e odori inquinanti emessi da fonti di inquinamento sono eliminati e i gas tossici e nocivi sono ridotti a bassa tossicità e non tossicità, proteggendo l'ambiente di vita umano. Grazie alla sua efficiente decomposizione delle molecole inquinanti e al basso consumo energetico di lavorazione, ha aperto un nuovo approccio per il trattamento dei gas di scarico industriali. La zona di reazione plasmatica è ricca di sostanze altamente energetiche come elettroni ad alta energia, ioni, radicali liberi e molecole di stato eccitato. Gli inquinanti presenti nei gas di scarico possono reagire con queste sostanze ad alta energia, facendole decomporre in un brevissimo periodo di tempo e subire varie reazioni successive per raggiungere lo scopo di spiegare gli inquinanti. Rispetto alla tecnologia al plasma a bassa temperatura generata dalla tradizionale scarica corona, la densità di scarico della tecnologia al plasma è 1500 volte quella della scarica corona. Ecco perché la tecnologia tradizionale al plasma a bassa temperatura non riesce a trattare il 99% dei gas di scarico industriali.

L'apparecchiatura catalitica del plasma fotoossigeno utilizza una forma di scarico a doppia barriera media per generare plasma, che ha una densità 1500 volte superiore a quella del plasma generato da altre tecnologie. Inizialmente è stata utilizzata per la decomposizione e il trattamento delle sostanze Freon e Halon, e successivamente estesa al trattamento di odori industriali, odori e gas tossici e nocivi. Questa tecnologia è a risparmio energetico, rispettosa dell'ambiente e ha una vasta gamma di applicazioni. Quasi tutti gli odori e gli odori generati nei processi di produzione chimica possono essere trattati e ha un buon effetto di decomposizione sulle diossine.

L'apparecchiatura catalitica del plasma fotoossigeno è il quarto stato della materia dopo solido, liquido e gas. Quando la tensione applicata raggiunge la tensione di scarico del gas, il gas viene scomposto, producendo una miscela che comprende elettroni, vari ioni, atomi e radicali liberi. Durante il processo di scarico, anche se la temperatura dell'elettrone è alta, la temperatura delle particelle pesanti è bassa e l'intero sistema presenta uno stato di bassa temperatura, quindi è chiamato plasma a bassa temperatura. La degradazione del plasma a bassa temperatura degli inquinanti utilizza l'interazione tra elettroni ad alta energia, radicali liberi e altre particelle attive con inquinanti nei gas di scarico, causando la decomposizione delle molecole inquinanti in un periodo di tempo molto breve e subiscono varie reazioni successive per raggiungere l'obiettivo della degradazione dell'inquinante.